基体の表面処理方法及びそれに用いる有機錯化剤含有アンモニア水溶液

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長谷川曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996167183
Publication number (International publication number)：1998012584
Application date： Jun. 27, 1996
Publication date： Jan. 16, 1998
Summary：

【要約】【課題】基体表面への金属不純物の汚染を長時間にわたって防止し、安定的に極めて清浄な基体表面を達成する事ができる基体の表面処理方法を提供する。【解決手段】液媒体中に、アンモニア、水、並びに、分子構造中に環状骨格を有し、且つ該環を構成する炭素原子に結合したOH基及び/またはO-基を1つ以上有する有機錯化剤を含有するアルカリ性表面処理組成物を用いて基体の表面処理を行う際に、蒸発したアンモニア分を当該有機錯化剤を含有するアンモニア水溶液で補う基体の表面処理方法。

Claim (excerpt)：

液媒体中に、アンモニア、水、並びに、分子構造中に環状骨格を有し、且つ該環を構成する炭素原子に結合したOH基及び/またはO-基を1つ以上有する有機錯化剤を含有するアルカリ性表面処理組成物を用いて基体の表面処理を行う際に、蒸発したアンモニア分を当該有機錯化剤を含有するアンモニア水溶液で補うことを特徴とする基体の表面処理方法。

IPC (4)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304 , C09K 3/00 108 , C11D 7/32

FI (4)：

H01L 21/304 341 S , H01L 21/304 341 L , C09K 3/00 108 C , C11D 7/32

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

新規な表面処理方法及び処理剤
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-027496 Applicant：和光純薬工業株式会社
特開平4-278529

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