レーザ装置、露光装置、リソグラフィシステム及び素子製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：立石篤司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997123328
Publication number (International publication number)：1998303482
Application date： Apr. 25, 1997
Publication date： Nov. 13, 1998
Summary：

【要約】【課題】管理上の負担の軽減、コストの低減等を図る。【解決手段】ガス流量調整系38a〜38dにより複数のガス供給源34a〜34dからのガスの流量を各々調整してレーザ光源36a〜36dに供給することができるので、媒質ガス、バッファガス等の単独ガス、あるいはこれら媒体ガスとバッファガスの混合ガスのガス供給源の適宜の組み合わせによりレーザ光源36a〜36dにとって最適なガス濃度を実現できる。特に、レーザ光源が2以上の場合、同じ種類のガスであれば同じガス供給源34a〜34dから異なるレーザ光源36a〜36dに供給できるので、ガス供給設備の構成を簡略化することができ、特に媒質ガスの中に有毒ガス(例えばフッ素)等が含まれている場合には、当該有毒ガスの供給源を最少にすることができるので、管理上の負担の軽減、コストの低減等を図ることが可能になる。

Claim (excerpt)：

混合ガスをレーザ媒質とする少なくとも1つのレーザ光源と;前記混合ガスの組成を成すガスを供給するための複数のガス供給源と;前記複数のガス供給源からのガスの流量を各々調整して前記レーザ光源に供給するガス流量調整系とを有するレーザ装置。

IPC (5)：

H01S 3/036 , G03F 7/20 505 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027 , H01S 3/225

FI (6)：

H01S 3/03 J , G03F 7/20 505 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 515 B , H01L 21/30 527 , H01S 3/223 E

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

特開昭62-252183
レーザシステム、露光装置およびエキシマレーザ装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-204284 Applicant：キヤノン株式会社
特開昭63-034989

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Cited by examiner (5)

特開昭62-252183
レーザシステム、露光装置およびエキシマレーザ装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-204284 Applicant：キヤノン株式会社
特開昭63-034989

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