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J-GLOBAL ID：200903022555830059

表面検査装置

Inventor：
宮川 一宏

About 宮川 一宏

, 
岩 陽一郎

About 岩 陽一郎

, 
関根 明彦

About 関根 明彦


Applicant, Patent owner：
株式会社トプコン

About 株式会社トプコン


Agent (1)： 西脇 民雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004165671
Publication number (International publication number)：2005345281
Application date： Jun. 03, 2004
Publication date： Dec. 15, 2005
Summary：
【課題】 測定対象物の表面が粗面であっても、測定対象物の照射検出位置が基準の高さからずれているのかいないのかの区別を行うことができるようにした表面検査装置を提供する。【解決手段】光源からの照射光を測定対象物の表面に照射する照射光学系と測定対象物の表面により反射された散乱光を受光する受光光学系とを含む光学系と備え、照射光学系は照射光軸が互いに平行なマルチビームを測定対象物の表面に向けて集束照射するマルチビーム照射光学系を備え、高さ方向ずれ量検出手段は、受光軸が互いに平行でかつ測定対象物の表面により反射されたマルチビームをそれぞれ受光する受光素子が設けられた集光光学系を備え、処理手段は解析処理結果に基づき照射検出位置が基準高さ位置にあるとしたときの各受光素子の受光基準位置と実際の受光位置との差に基づいて照射検出位置の基準高さ位置における平面座標位置を求める。【選択図】 図5
Claim (excerpt)：
光源からの照射光を測定対象物の表面に照射する照射光学系と前記測定対象物の表面により反射された散乱光を受光する受光光学系とを含む光学系と、前記測定対象物の表面への前記光学系による照射検出位置を相対変位させる相対変位手段と、前記光学系の受光結果に基づき前記測定対象物の表面の状態を検出すると共に前記測定対象物の表面への照射検出位置を平面座標位置として記録する記録手段と、前記平面座標位置の基準高さ位置に対するずれ量を検出する高さ方向ずれ量検出手段と、前記高さ方向ずれ量検出手段によるずれ量に基づき前記照射検出位置である平面座標位置を補正して前記平面座標位置を求める処理手段とを備え、 前記照射光学系は照射光軸が互いに平行なマルチビームを前記測定対象物の表面に向けて集束照射するマルチビーム照射光学系を備え、前記高さ方向ずれ量検出手段は、受光軸が互いに平行でかつ前記測定対象物の表面により反射されたマルチビームをそれぞれ受光する受光素子が設けられた集光光学系を備え、前記処理手段は前記マルチビームの受光結果に基づき前記表面の状態情報を解析処理すると共に、該解析処理結果に基づき前記測定対象物の照射検出位置が基準高さ位置にあるとしたときの前記各受光素子の受光基準位置と実際の受光位置との差に基づいて前記照射検出位置の基準高さ位置における平面座標位置を求める処理を行うことを特徴とする表面検査装置。
IPC (4)：
G01B11/30 ,  G01B11/02 ,  G01B11/16 ,  G01N21/956
FI (4)：
G01B11/30 A ,  G01B11/02 Z ,  G01B11/16 Z ,  G01N21/956 A
F-Term (36)：
2F065AA03 ,  2F065AA20 ,  2F065AA24 ,  2F065AA49 ,  2F065AA65 ,  2F065BB01 ,  2F065CC19 ,  2F065EE05 ,  2F065FF44 ,  2F065FF66 ,  2F065FF67 ,  2F065GG04 ,  2F065GG13 ,  2F065HH04 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ26 ,  2F065MM04 ,  2F065MM07 ,  2F065PP02 ,  2F065PP13 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ29 ,  2G051AA51 ,  2G051AB01 ,  2G051AB07 ,  2G051BA01 ,  2G051BA10 ,  2G051CA03 ,  2G051CA07 ,  2G051CB01 ,  2G051CB05 ,  2G051DA08
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (3)

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