表面検査方法及びその方法を用いる表面検査装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：田辺徹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997336582
Publication number (International publication number)：1999153549
Application date： Nov. 21, 1997
Publication date： Jun. 08, 1999
Summary：

【要約】【課題】ウェハに反りがあっても、異物の高さ方向の座標位置を正確に検出して記録できる、ウェハの高さ信号による表面検査方法及び装置を提供することである。【解決手段】光学系を介して、光源からの光を測定対象物の表面に照射するとともに、測定対象物の表面から反射した散乱光を受光し、その間に、測定対象物と光学系を相対的に変位させて、測定対象物の表面上の異物を検査し、異物の座標位置を記録し、測定対象物表面上の異物の検査時に、測定対象物の高さを測定し、その測定対象物の高さ信号を利用して異物の座標位置を補正する表面検査方法及び装置。

Claim (excerpt)：

光学系を介して、光源からの光を測定対象物の表面に照射するとともに、測定対象物の表面から反射した散乱光を受光し、その間に、測定対象物と光学系を相対的に変位させて、測定対象物の表面上の異物を検査し、異物の座標位置を記録する測定対象物表面の検査方法において、測定対象物表面上の異物の検査時に、測定対象物の高さを測定し、その測定対象物の高さ信号を利用して異物の座標位置を補正することを特徴とする表面検査方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (11)

表面欠陥検出方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-069777 Applicant：川崎製鉄株式会社
欠陥検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-249917 Applicant：株式会社東芝
特開平4-294203

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