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J-GLOBAL ID:200903022606250788

水素製造触媒及び水素の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 田中 政浩
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996338284
Publication number (International publication number):1998174870
Application date: Dec. 18, 1996
Publication date: Jun. 30, 1998
Summary:
【要約】【課題】 低温において高い収率で水素を得ることができる触媒及び製造方法を提供する。【解決手段】 上記課題は、銅を含有することを特徴とする、ジメチルエーテルと水蒸気から水素を生成させる触媒と、ジメチルエーテルと水蒸気を含有する混合ガスに銅を含有する触媒を接触させることを特徴とする水素の製造方法によって解決される。
Claim (excerpt):
銅を含有することを特徴とする、ジメチルエーテルと水蒸気から水素を生成させる触媒
IPC (6):
B01J 23/72 ,  B01J 23/80 ,  B01J 23/889 ,  B01J 23/86 ,  C01B 3/22 ,  C01B 3/40
FI (6):
B01J 23/72 M ,  B01J 23/80 M ,  B01J 23/86 M ,  C01B 3/22 Z ,  C01B 3/40 ,  B01J 23/84 311 M
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 水素リッチガスの製造方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-189590   Applicant:ハルドール・トプサー・アクチエゼルスカベット

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