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J-GLOBAL ID：200903022688426218

グラファイト状炭素の製造方法

Inventor： 大田 昌昭 ,  吉瀬 良文
Applicant, Patent owner： 株式会社島津製作所 ,  財団法人地球環境産業技術研究機構
Agent (1)： 野口 繁雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998233063
Publication number (International publication number)：2000072425
Application date： Aug. 19, 1998
Publication date： Mar. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】 小さなエネルギーでグラファイト状炭素を製造する。【解決手段】 酸化コバルト10gを、反応管10に充填し、水素ガスにより400°Cで還元した後、窒素ガス、二酸化炭素ガス、水素ガスの混合ガスを流しながら、反応管10を加熱炉14により加熱し、反応後のガスをガスクロマトグラフ16により測定して生成物の量を定量した。反応条件は、窒素ガス:二酸化炭素ガス:水素ガス=1:3:6、混合ガス流量が200ml/分、反応温度が525°Cで行なった。その結果、グラファイト状炭素を得ることができた。

Claim (excerpt)：

水素と二酸化炭素を1/1以上の比で含む混合ガスを、酸化コバルト、コバルトを含む合金又は金属コバルトからなる触媒に、触媒反応温度が420〜600°Cの条件で接触させることを特徴とするグラファイト状炭素の製造方法。

IPC (3)：

C01B 31/04 101 ,  B01J 23/75 ,  H01M 4/58

FI (3)：

C01B 31/04 101 Z ,  H01M 4/58 ,  B01J 23/74 311 Z

F-Term (20)：

4G046EA06 ,  4G046EB04 ,  4G046EC02 ,  4G046EC08 ,  4G069AA02 ,  4G069BA17 ,  4G069BC67A ,  4G069BC67B ,  4G069BD02A ,  4G069BD02B ,  4G069CB81 ,  4G069CC32 ,  5H003AA08 ,  5H003AA10 ,  5H003BA01 ,  5H003BA07 ,  5H003BB02 ,  5H003BC01 ,  5H003BC06 ,  5H003BD01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 二酸化炭素の変換方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-010119   Applicant：株式会社日立製作所
• 特開平3-170316