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J-GLOBAL ID：200903022689720055

水素ガスの発生方法および水素ガス発生装置

Inventor：
水野 忠彦

About 水野 忠彦


Applicant, Patent owner：
水野 忠彦

About 水野 忠彦

, 
荒木 正雄

About 荒木 正雄


Agent (6)： 鈴江 武彦 ,  村松 貞男 ,  坪井 淳 ,  橋本 良郎 ,  河野 哲 ,  中村 誠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002218552
Publication number (International publication number)：2004059977
Application date： Jul. 26, 2002
Publication date： Feb. 26, 2004
Summary：
【課題】制御性よく、連続的に水を直接熱分解して、高い効率で水素ガスを発生する方法を提供する。【解決手段】反応容器内に酸、アルカリまたは金属塩の水溶液を収容し、70°C以上100°C未満に加熱する工程、前記加熱された水溶液に100V以上2000V以下の電圧を、0.1s以上10s以下のパルス幅、0.01s以上5s以下のパルス間隔で印加してプラズマを発生させる工程、および前記プラズマにより前記水溶液を電気分解する工程を具備することを特徴とする。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
反応容器内に酸、アルカリまたは金属塩の水溶液を収容し、70°C以上100°C未満に加熱する工程、 前記加熱された水溶液に100V以上2000V以下の電圧を、0.1s以上10s以下のパルス幅、0.01s以上5s以下のパルス間隔で印加してプラズマを発生させる工程、および 前記プラズマにより前記水溶液を電気分解する工程 を具備することを特徴とする水素ガスの発生方法。
IPC (4)：
C25B1/04 ,  C01B3/04 ,  C25B11/02 ,  C25B15/02
FI (4)：
C25B1/04 ,  C01B3/04 R ,  C25B11/02 302 ,  C25B15/02 302
F-Term (15)：
4K011AA15 ,  4K011CA05 ,  4K011DA01 ,  4K021AA01 ,  4K021BA02 ,  4K021BA17 ,  4K021BB03 ,  4K021BC05 ,  4K021CA05 ,  4K021CA06 ,  4K021CA12 ,  4K021DA05 ,  4K021DA10 ,  4K021DA13 ,  4K021DC03
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)

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