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J-GLOBAL ID:200903022757004150

既存構造物基礎地盤への注入液の注入方法および装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003136085
Publication number (International publication number):2004339747
Application date: May. 14, 2003
Publication date: Dec. 02, 2004
Summary:
【課題】本発明は、既存構造物に有害な変状を生じさせることなく、既存構造物下の基礎地盤に、地盤改良に好適な注入液を注入する既存構造物基礎地盤への注入液の注入方法及び装置を提供する。【解決手段】基礎地盤13に注入手段2を用いて地盤改良に好適な注入液15を注入するに際し、基礎地盤13及び既存構造物8の基礎床版9の変状を変状検知手段3を用いてモニタリングして、適宜注入圧力を調整するとともに、これらと並行して基礎地盤13の地下水頭が所定範囲内に収まるよう揚水手段6を用いた地下水14の揚水を実施することにより、既存構造物8に有害な変状を生じさせることなく、基礎地盤13の地盤改良を実施するものである。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
既存構造物下の基礎地盤に、地盤改良に好適な注入液を注入する既存構造物基礎地盤への注入液の注入方法であって、 前記既存構造物の基礎床版を貫通し、基礎地盤の所定深さに達する複数の鉛直孔を設置する第1の工程と、 何れか1体の鉛直孔を前記注入液の注入孔、これと隣接する複数の鉛直孔を揚水孔と位置付ける第2の工程と、 前記注入孔周辺における基礎床版、及び基礎地盤の変状状況をモニタリングし、変状量が所定限度に収まるように注入圧力を制御しながら、前記注入孔から基礎地盤へ注入液を注入するとともに、これと並行して前記揚水孔から地下水を揚水し、地下水頭が所定範囲に収まるように制御する第3の工程とにより構成され、 前記鉛直孔すべてに対して、第2の工程及び第3の工程を繰り返すことを特徴とする既存構造物基礎地盤への注入液の注入方法。
IPC (1):
E02D3/12
FI (1):
E02D3/12 101
F-Term (8):
2D040AB01 ,  2D040BA02 ,  2D040BB03 ,  2D040CB03 ,  2D040DB01 ,  2D040FA00 ,  2D040FA08 ,  2D040FA09
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 地盤側方流動防止工法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平9-023031   Applicant:清水建設株式会社
  • 薬液注入工法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-188151   Applicant:平成テクノス株式会社
  • 地盤の薬液注入量の測定方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-174581   Applicant:清水建設株式会社
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