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J-GLOBAL ID:200903022831168918

複合刺激応答性高分子誘導体

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 工業技術院物質工学工業技術研究所長 (外4名) ,  萩野 平 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998080583
Publication number (International publication number):1999255831
Application date: Mar. 13, 1998
Publication date: Sep. 21, 1999
Summary:
【要約】【課題】ドラッグデリバリーシステム(DDS) 、各種分離剤、カテーテル、人工筋肉など応用範囲が格段に広い、刺激により下限臨界温度(LCST)と上限臨界温度(UCST)を変換できる、あるいは水素イオン濃度による可逆的な溶解、沈殿を単一化合物で個々に発生させることのできる複合刺激応答性高分子を得る。【解決手段】式(1)で表されるモノマー成分の少なくとも1種を含有する下限臨界温度を有する複合刺激応答性高分子誘導体〔式(1)中、R1は水素原子又はメチル基を示し、R2は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状もしくは環状の、アルキル基、アルコキシル基もしくはアルキルアミノ基、アリール基、又は複素環基を示し、それぞれハロゲン化されていてもよい〕。【化1】
Claim (excerpt):
下記一般式(1)で表されるモノマー成分の少なくとも1種を含有する下限臨界温度を有する複合刺激応答性高分子誘導体。【化1】〔式(1)中、R1 は水素原子又はメチル基を示し、R2 は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状もしくは環状の、アルキル基、アルコキシル基もしくはアルキルアミノ基、アリール基、又は複素環基を示し、それぞれハロゲン化されていてもよい。〕
IPC (5):
C08F 20/60 ,  A61L 27/00 ,  A61L 29/00 ,  C08F 20/58 ,  C08F220/56
FI (5):
C08F 20/60 ,  A61L 27/00 W ,  A61L 29/00 C ,  C08F 20/58 ,  C08F220/56
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (4)
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