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J-GLOBAL ID：200903022875798498

ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの精製方法

Inventor：
米田 幸弘

About 米田 幸弘

, 
渋沢 文生

About 渋沢 文生

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新谷 恭宏

About 新谷 恭宏

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上岡 正敏

About 上岡 正敏


Applicant, Patent owner：
株式会社日本触媒

About 株式会社日本触媒


Agent (1)： 松本 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999286974
Publication number (International publication number)：2001106654
Application date： Oct. 07, 1999
Publication date： Apr. 17, 2001
Summary：
【要約】【課題】 蒸留工程においてジエステル、(メタ)アクリル酸ダイマ-等の副生を抑え、且つ、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレ-トの純度を確保でき、重合などのトラブルを起こさずに安定運転可能な、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレ-トの精製方法を提供する。【解決手段】 触媒の存在下でアルキレンオキシドと(メタ)アクリル酸とを反応させ、反応後の反応液中の未反応アルキレンオキシドおよび/または未反応(メタ)アクリル酸を除去して得られるヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの精製方法において、空塔部分を有する蒸留装置と薄膜式蒸発装置とを併用する。
Claim (excerpt)：
触媒の存在下でアルキレンオキシドと(メタ)アクリル酸とを反応させ、反応後の反応液中の未反応アルキレンオキシドおよび/または未反応(メタ)アクリル酸を除去して得られるヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの精製方法において、空塔部分を有する蒸留装置と薄膜式蒸発装置とを併用することを特徴とする、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの精製方法。
IPC (6)：
C07C 67/54 ,  B01D 1/22 ,  B01D 3/00 ,  C07C 67/26 ,  C07C 67/62 ,  C07C 69/54
FI (6)：
C07C 67/54 ,  B01D 1/22 A ,  B01D 3/00 A ,  C07C 67/26 ,  C07C 67/62 ,  C07C 69/54 Z
F-Term (20)：
4D076AA07 ,  4D076AA16 ,  4D076BA11 ,  4D076BB01 ,  4D076BB03 ,  4D076EA14Z ,  4D076FA12 ,  4D076FA31 ,  4D076JA02 ,  4H006AA02 ,  4H006AC41 ,  4H006AC48 ,  4H006AD11 ,  4H006BA94 ,  4H006BC51 ,  4H006BC52 ,  4H006BD82 ,  4H006BD84 ,  4H006BT12 ,  4H006KA19
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (2)

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