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J-GLOBAL ID:200903023051163880
パラメータ調整装置及びパラメータ調整方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
須山 佐一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997111418
Publication number (International publication number):1998301915
Application date: Apr. 28, 1997
Publication date: Nov. 13, 1998
Summary:
【要約】【課題】 エキスパートシステムのパラメータを現実的な時間内に調整するパラメータ調整装置及びパラメータ調整方法を提供すること。【解決手段】 エキスパートシステム内に含まれるパラメータを調整するにあたり、事例格納部11に含まれるデータとその分類クラスとの関係を直接的に評価することが難しい間接判定パラメータを、間接判定パラメータ生成部12及び特徴量計算部13で探索手法を利用して決定する一方で、該データを特徴量に対応させて得られるデータ分布をクラス分類する直接判定パラメータを含むデータである判断規則の最適値を判断規則調整部14を参照して調整・決定し、染色体集団が収束するまで選択・交差・突然変異を繰り返すので、特徴量算出回数を削減することができ、膨大なデータを含むエキスパートシステムに対しても、高速かつ効率的にパラメータを調整することが可能となり、エキスパートシステムの利用を普遍的にすることができる。
Claim (excerpt):
データと該データが属する分類クラスとを間接的に関係づけるパラメータを探索的に生成する手段と、前記生成したパラメータを用いて、前記データの特徴を表す値を計算する手段と、前記計算したデータの特徴を表す値と前記データが属する分類クラスとの間の関係を決定する手段とを具備することを特徴とするパラメータ調整装置。
IPC (4):
G06F 15/18 540
, G06F 15/18 550
, G06F 9/44 550
, G06T 1/00
FI (4):
G06F 15/18 540 Z
, G06F 15/18 550 C
, G06F 9/44 550 N
, G06F 15/62 380
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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パターン認識における遺伝アルゴリズムを用いたマスクの最適化方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-285527
Applicant:グローリー工業株式会社
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個人照合装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-170866
Applicant:松下電器産業株式会社
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画像処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-093319
Applicant:シャープ株式会社
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