Pat
J-GLOBAL ID:200903023054592634

水素分離透過膜とその製造方法と水素生成分離装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 岩橋 文雄 ,  坂口 智康 ,  内藤 浩樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003082264
Publication number (International publication number):2004202479
Application date: Mar. 25, 2003
Publication date: Jul. 22, 2004
Summary:
【課題】膜を貫通するピンホールにより水素以外の気体が水素分離透過膜を通過する可能性を少なくする。【解決手段】水素生成分離装置は、水素分離透過膜1により、炭化水素ガスと水蒸気とを高温で反応させて水素ガスを生成させる反応室2と、反応室2で生成され水素分離透過膜1を透過した高純度の水素ガスが流出する分離室3とに区画したものである。水素分離透過膜1は、体心立方構造を有する高融点の遷移金属であるTaからなり2層積層されたTa層4と、この複数層積層されたTa層の両面に設けられたPd層5a,5bとからなる多層構造の膜であり、Pd層5a,5bは、多層構造の膜の最外層にのみ存在する。Pd層5a,5bとTa層4とは拡散接合され、この拡散接合された多層構造の膜は圧延されている。反応室2に露出する側のPd層5aの厚さは、分離室3に露出する側のPd層5bの厚さより厚くしてある。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
水素透過性能の高い金属からなり複数積層された金属層と、前記複数積層された金属層の両面に設けられたPd層またはPd合金層とからなる多層構造の水素分離透過膜。
IPC (4):
B01D71/02 ,  B01D53/22 ,  B01D69/12 ,  C01B3/56
FI (4):
B01D71/02 500 ,  B01D53/22 ,  B01D69/12 ,  C01B3/56 Z
F-Term (22):
4D006GA41 ,  4D006HA42 ,  4D006JA70Z ,  4D006MA03 ,  4D006MA07 ,  4D006MA08 ,  4D006MA31 ,  4D006MB03 ,  4D006MC02X ,  4D006NA45 ,  4D006NA47 ,  4D006NA54 ,  4D006PA01 ,  4D006PB18 ,  4D006PB65 ,  4D006PB66 ,  4D006PB68 ,  4D006PC69 ,  4D006PC80 ,  4G140FA02 ,  4G140FC01 ,  4G140FE01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
  • 特許第3867539号
  • 水素透過膜及びその作製方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平10-103696   Applicant:東京瓦斯株式会社
  • 封入接点材料
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-019885   Applicant:古河電気工業株式会社
Show all

Return to Previous Page