排ガス浄化装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：谷義一 , 阿部和夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003296749
Publication number (International publication number)：2005069040
Application date： Aug. 20, 2003
Publication date： Mar. 17, 2005
Summary：

【課題】プラズマ発生のために好適な電極間の電位差を確保しつつ、ハニカム構造体におけるPMの付着位置を制御できるような手段を提供する。【解決手段】中心電極30と外周電極20との電位差を所定の目標値に維持しつつ、中心電極30の電位を可変する。中心電極30と外周電極20との電位差をプラズマの発生に適した電位差に維持することによりプラズマを好適に発生させながら、ハニカム構造体40におけるPMの付着位置を自在に制御できる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

供給される排ガス中の粒子状物質を捕集すべきハニカム構造体と、該ハニカム構造体の上流側からハニカム構造体の軸線上に延びる中心電極と、前記ハニカム構造体の外周に配置された外周電極と、前記中心電極および前記外周電極に印加する電圧を制御する制御手段とを備えた排ガス浄化装置であって、前記制御手段は、前記中心電極と前記外周電極とを異極とし、且つ前記中心電極と前記外周電極との電位差を維持しつつ前記中心電極の電圧を可変することを特徴とする排ガス浄化装置。

IPC (5)：

F01N9/00 , B01D46/42 , B01D53/94 , F01N3/02 , F01N3/08

FI (8)：

F01N9/00 Z , B01D46/42 B , F01N3/02 301F , F01N3/08 C , B01D53/36 103C , B01D53/34 129C , B01D53/34 135A , B01D53/34 120D

F-Term (67)：

3G090AA02 , 3G090AA03 , 3G090AA06 , 3G090BA01 , 3G090CA01 , 3G090CA05 , 3G090DA01 , 3G090DA09 , 3G090DA10 , 3G090DA18 , 3G090DA20 , 3G091AA02 , 3G091AA17 , 3G091AA28 , 3G091AB02 , 3G091AB13 , 3G091AB14 , 3G091BA00 , 3G091BA14 , 3G091BA15 , 3G091BA19 , 3G091BA21 , 3G091BA31 , 3G091CB08 , 3G091EA01 , 3G091EA05 , 3G091EA06 , 3G091EA07 , 3G091EA28 , 3G091EA34 , 3G091GA06 , 3G091GB01W , 3G091GB06W , 3G091GB07W , 3G091GB10W , 3G091GB16W , 3G091HA14 , 4D002AA08 , 4D002AA12 , 4D002AA40 , 4D002AC10 , 4D002BA05 , 4D002BA07 , 4D002BA14 , 4D002CA07 , 4D002CA13 , 4D002DA70 , 4D002EA02 , 4D002GA03 , 4D002GB20 , 4D048AA14 , 4D048AB01 , 4D048BA03X , 4D048BA23X , 4D048BA28X , 4D048BA30X , 4D048BA35X , 4D048BA41X , 4D048BB02 , 4D048EA03 , 4D058JA32 , 4D058JB06 , 4D058MA44 , 4D058MA60 , 4D058SA08 , 4D058TA06 , 4D058UA25

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

プラズマでパティキュレート物質を反応消滅させるDPF装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-114070 Applicant：河村英男

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