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J-GLOBAL ID：200903023333534598

光学異方体の製造方法

Inventor：
田中 興一

About 田中 興一

, 
川辺 和幸

About 川辺 和幸

, 
江森 洋之

About 江森 洋之


Applicant, Patent owner：
日本化薬株式会社

About 日本化薬株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999335808
Publication number (International publication number)：2001154019
Application date： Nov. 26, 1999
Publication date： Jun. 08, 2001
Summary：
【要約】【課題】同一条件、同一方向でラビング処理した基板を用いて、任意の配向方向を有する光学異方体を製造する。【解決手段】基板表面をラビング処理した後、該基板表面上に光学異方体を形成する際に、有機溶剤の種類、混合溶剤の場合にはその比率、及び該光学異方体を構成する化合物を溶解する際の溶液の濃度を選定して調製した光学異方体を構成する化合物の溶液を塗布後、該溶剤を除去することにより光学異方体の配向方向をラビング方向に対して任意の角度に配向させることを特徴とする光学異方体の製造方法。
Claim (excerpt)：
基板表面をラビング処理した後、該基板表面上に光学異方体を形成する際に、有機溶剤の種類、混合溶剤の場合にはその比率、及び該光学異方体を構成する化合物を溶解する際の溶液の濃度を選定して調製した光学異方体を構成する化合物の溶液を塗布後、該溶剤を除去することにより光学異方体の配向方向をラビング方向に対して任意の角度に配向させることを特徴とする光学異方体の製造方法。
IPC (7)：
G02B 5/30 ,  C08F 2/48 ,  C08J 7/04 CEP ,  C08J 7/04 CES ,  C09K 19/38 ,  G02F 1/13363 ,  C08L101:00
FI (7)：
G02B 5/30 ,  C08F 2/48 ,  C08J 7/04 CEP Z ,  C08J 7/04 CES Z ,  C09K 19/38 ,  G02F 1/13363 ,  C08L101:00
F-Term (40)：
2H049BA02 ,  2H049BA04 ,  2H049BA42 ,  2H049BB03 ,  2H049BB49 ,  2H049BC04 ,  2H049BC22 ,  2H091FA11Y ,  2H091FB02 ,  2H091FB12 ,  2H091FC24 ,  2H091FC29 ,  2H091FD07 ,  2H091FD16 ,  2H091FD21 ,  2H091GA06 ,  2H091GA07 ,  2H091KA02 ,  2H091LA19 ,  2H091LA20 ,  4F006AA02 ,  4F006AA12 ,  4F006AB24 ,  4F006AB62 ,  4F006BA00 ,  4F006CA05 ,  4F006DA04 ,  4F006EA04 ,  4H027BA01 ,  4H027BA03 ,  4H027BA13 ,  4H027BD07 ,  4J011CA01 ,  4J011CC10 ,  4J011QA07 ,  4J011QA12 ,  4J011QC07 ,  4J011UA01 ,  4J011VA01 ,  4J011WA10
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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