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J-GLOBAL ID：200903023352779160

反転されたウェハ投影光学系インタフェースを使用する浸漬フォトリソグラフィシステム及び方法

Inventor：
ハリー セウェル

About ハリー セウェル


Applicant, Patent owner：
エーエスエムエル ホールディング ナームローゼ フェンノートシャップ

About エーエスエムエル ホールディング ナームローゼ フェンノートシャップ


Agent (4)： 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004188523
Publication number (International publication number)：2005020013
Application date： Jun. 25, 2004
Publication date： Jan. 20, 2005
Summary：
【課題】液体浸漬フォトリソグラフィシステムにおいて投影光学系とウェハとの間に液体を閉じ込めるための単純なシステム及び方法を提供する。【解決手段】基板101を電磁放射で露光しかつ電磁放射を基板上に集束させる投影光学系100を有する露光系と、投影光学系100と基板101との間に液体を提供する液体供給系とが設けられており、投影光学系が基板の下方に位置決めされている。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
液体浸漬フォトリソグラフィシステムにおいて、 露光系が設けられており、該露光系が、基板を電磁放射で露光し、かつ電磁放射を基板上に集束させる投影光学系を有しており、 投影光学系と基板との間に液体を提供する液体供給系とが設けられており、 投影光学系が基板の下方に位置決めされていることを特徴とする、液体浸漬フォトリソグラフィシステム。
IPC (3)：
H01L21/027 ,  G02B13/14 ,  G03F7/20
FI (3)：
H01L21/30 515D ,  G02B13/14 ,  G03F7/20 521
F-Term (9)：
2H087KA21 ,  2H087NA00 ,  2H087NA04 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CA08 ,  5F046CB01 ,  5F046CB26 ,  5F046CC01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)

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