レジスト用樹脂および化学増幅型レジスト組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999198161
Publication number (International publication number)：2001022073
Application date： Jul. 12, 1999
Publication date： Jan. 26, 2001
Summary：

【要約】【課題】基板への高い密着性を有するDUVエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィーに好適なレジスト用樹脂および化学増幅型レジスト組成物を提供する。【解決手段】酸によりアルカリ水溶液に可溶となるレジスト用樹脂であって、式(1)および(2)から選ばれる少なくとも1種の構造を有する単量体単位が含まれていることを特徴とするレジスト用樹脂。【化5】(Rは水素原子あるいはアルキル基、nは0から4の整数)【化6】(Rは水素原子あるいはアルキル基、nは0から4の整数)

Claim (excerpt)：

酸によりアルカリ水溶液に可溶となるレジスト用樹脂であって、式(1)および(2)から選ばれる少なくとも1種の構造を有する単量体単位が含まれていることを特徴とするレジスト用樹脂。【化1】(Rは水素原子あるいはアルキル基、nは0から4の整数)【化2】(Rは水素原子あるいはアルキル基、nは0から4の整数)

IPC (3)：

G03F 7/039 601 , C08F220/26 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 , C08F220/26 , H01L 21/30 502 R

F-Term (31)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AB20 , 2H025AC04 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB52 , 2H025FA17 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100BA11R , 4J100BC04P , 4J100BC07P , 4J100BC09P , 4J100BC26P , 4J100BC28P , 4J100BC53Q , 4J100BC55R , 4J100BC58R , 4J100CA05 , 4J100DA28 , 4J100FA02 , 4J100FA17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

酸感応性共重合体、レジスト組成物及びレジストパタ-ンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-014479 Applicant：富士通株式会社
(メタ)アクリル酸エステルおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-075906 Applicant：三菱レイヨン株式会社

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