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J-GLOBAL ID:200903023578049245

酸化チタンナノワイヤ構造体の製造方法及びその方法で得られる酸化チタンナノワイヤ構造体

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004375169
Publication number (International publication number):2006182575
Application date: Dec. 27, 2004
Publication date: Jul. 13, 2006
Summary:
【課題】 ナノワイヤ形状の新規な酸化チタン構造体を、有機溶媒・界面活性剤や危険を伴う高濃度のアルカリを用いないで簡易に製造する方法を提供する。【解決手段】 チタン酸塩を酸性条件下で水熱処理しながら乾燥させる酸化チタンナノワイヤ構造体の製造方法である。そのチタン酸塩には、層状構造を持つチタン酸塩、なかでもチタン酸ナトリウムを用いることが好ましい。その水熱・乾燥処理には、濃度0.01〜0.5mol/Lの希塩酸を用いてオートクレーブ中で行うことが好ましい。その際、オートクレーブからの微小なリークにより希塩酸を徐々に蒸発させることによって水熱処理しながらゆっくりと乾燥させる。また水熱・乾燥処理温度は120〜200°Cの範囲が好ましく、その処理時間は120時間以上であることが好ましい。得られた酸化チタンナノワイヤ構造体は、色素増感太陽電池の光電極、光触媒、光・電子材料等として広範な分野に利用可能である。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
チタン酸塩を酸性条件下で水熱処理及び乾燥処理を行うことを特徴とする酸化チタンナノワイヤ構造体の製造方法。
IPC (2):
C01G 23/053 ,  C01G 23/04
FI (2):
C01G23/053 ,  C01G23/04 Z
F-Term (4):
4G047CA02 ,  4G047CB05 ,  4G047CC03 ,  4G047CD04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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Article cited by the Patent:
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