Pat
J-GLOBAL ID:200903023857524719
基板吸着プレート
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
白井 博樹 (外7名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999295376
Publication number (International publication number):2001118913
Application date: Oct. 18, 1999
Publication date: Apr. 27, 2001
Summary:
【要約】【課題】基板の平面性を高精度に維持するとともに剥離帯電の問題を解消する。【解決手段】基板3を真空吸着により固定する基板吸着プレート1において、基板吸着プレート1の表面に多数の凹部1bまたは凸部を形成し、基板吸着プレートの平面度を維持しながら基板との接触面積を減少させるようにした。
Claim (excerpt):
基板を真空吸着により固定する基板吸着プレートにおいて、基板吸着プレートの表面に多数の凹部を形成し、基板吸着プレートの平面度を維持しながら基板との接触面積を減少させるようにしたことを特徴とする基板吸着プレート。
IPC (2):
FI (2):
H01L 21/68 P
, B25J 15/06 K
F-Term (31):
3C007DS01
, 3C007FS01
, 3C007FT00
, 3C007FT01
, 3C007FT11
, 3C007FU00
, 3C007NS09
, 3C007NS17
, 3F061AA01
, 3F061CA01
, 3F061CB00
, 3F061CB01
, 3F061CB05
, 3F061CC00
, 3F061DB04
, 3F061DB06
, 5F031CA02
, 5F031CA05
, 5F031CA07
, 5F031FA01
, 5F031FA02
, 5F031FA04
, 5F031FA12
, 5F031HA08
, 5F031HA14
, 5F031MA24
, 5F031MA26
, 5F031MA27
, 5F031PA16
, 5F031PA20
, 5F031PA21
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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基板保持装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-191765
Applicant:株式会社ニコン
-
特開平1-319965
-
特開平1-319965
-
基板熱処理装置および基板熱処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-127768
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
-
特開平1-319965
-
吸着機構付定盤
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-253191
Applicant:大日本印刷株式会社
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