広範なプロセス寛容度を有する高解像度ネガ型フォトレジスト

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：萼経夫 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993292675
Publication number (International publication number)：1994214388
Application date： Oct. 28, 1993
Publication date： Aug. 05, 1994
Summary：

【要約】【構成】放射線感受性酸発生剤と、酸の存在下で水性アルカリ溶液においてフォトレジストの溶解度を低下させる化合物と、次式I【化1】(式中、n=2〜6、RはH,ハロゲン,アルコキシ基,アルキル基、Z=脂肪族基,脂環式基,芳香族基,それらの混合基であるn価の基)のポリヒドロキシル化合物とを含む水性アルカリ媒体中で現像され得る化学的に強化されたネガ型フォトレジスト、および該レジストを用いる画像形成方法。【効果】上記レジストは画像様露光の間に焦点合わせに要求される精度を低下させる広範な寛容度を有し、かつ、高い解像度を示す。

Claim (excerpt)：

水性アルカリ媒体中で現像され得る化学的に強化されたネガ型フォトレジストであって、放射線感受性酸発生剤と、酸の存在下で水性アルカリ溶液において前記レジストの溶解度を低下させる化合物と、次式I【化1】(式中、nは2と6の間の整数を表し、Rは水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し、そしてZは非置換またはヒドロキシル基、ハロゲン原子および炭素原子数1ないし4のアルコキシ基からなる群からの1またはそれ以上の置換基により置換されたn価の基を表し、そしてa)1ないし12個の炭素原子を有する脂肪族基、b)5ないし20個の炭素原子を有する脂環式基、c)6ないし20個の炭素原子を有する芳香族基およびd)脂肪族基、脂環式基または芳香族基から選択される少なくとも2つの異なる構造単位からなる7ないし30個の炭素原子を有する基からなる群から選択される)で表されるポリヒドロキシル化合物とを含む前記化学的に強化されたネガ型フォトレジスト。

IPC (4)：

G03F 7/038 , C07C 39/04 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特開平4-134345
特開平4-217251
特開平3-200252

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