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J-GLOBAL ID:200903023882575379

屈折率調整方法、屈折率調整可能な光導波路および該光導波路を用いた屈折率調整光導波路の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 谷 義一 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995304853
Publication number (International publication number):1997145942
Application date: Nov. 22, 1995
Publication date: Jun. 06, 1997
Summary:
【要約】【課題】 光導波路の屈折率を簡便に調節し、しかも得られた屈折率を維持するのに何らエネルギーを必要としない、自己保存型の屈折率調整方法、屈折率調整可能な光導波路および該光導波路を用いた屈折率調整光導波路の製造方法を提供すること。【解決手段】 光導波路のコアまたはクラッドの少なくとも一部に、エネルギー線の照射、電圧印加、電流印加、加熱、冷却、加圧、減圧、磁場印加、物質の含浸またはドープさせることのうち少なくとも一つの操作を行うことにより屈折率が変化可能な有機化合物を設ける。前記操作の少なくとも一つを行うことにより該有機化合物の屈折率を変化させる。この有機化合物を光導波路のコアおよび/またはクラッドに設けて屈折率調整可能な光導波路を作製し、さらに前記操作の少なくとも一つを行うことにより屈折率調整光導波路が得られる。
Claim (excerpt):
基板上の光導波路のコアまたはクラッドの少なくとも一部に、エネルギー線の照射、電圧印加、電流印加、加熱、冷却、加圧、減圧、磁場印加、物質の含浸またはドープさせることのうち少なくとも一つの操作を行うことにより屈折率が変化可能な有機化合物を設け、前記操作の少なくとも一つを行うことにより該有機化合物の屈折率を変化させることを特徴とする光導波路のコアおよび/またはクラッドの屈折率調整方法。
IPC (2):
G02B 6/12 ,  G02F 1/01
FI (2):
G02B 6/12 H ,  G02F 1/01 C
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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