電位測定方法及びその装置並びに導通検査方法及びその装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高橋明夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997091062
Publication number (International publication number)：1998284552
Application date： Apr. 09, 1997
Publication date： Oct. 23, 1998
Summary：

【要約】【課題】本課題は、電子ビーム等の1種類の荷電粒子ビームを用いて被検査試料に対して配線パターンの導通検査を行う際、簡素な構成でチャージアップを低減して安定した検査を行うことができる導通検査方法およびその装置を提供することにある。【解決手段】本発明は、被検査試料1へのチャージアップを中和できるように低真空度に保たれた試料室11内に設置された被検査試料1に形成された所望の配線パターン2、3に対して照射手段により書込用のパルス状荷電粒子ビーム101b、101c、101d、111を照射して電位を付与し、前記被検査試料に形成された所望の配線パターン2、3における所望の個所に対して照射手段により呼出用のパルス状荷電粒子ビーム101a、101d、111を照射して所望の個所から生じる2次電子を検出手段33により検出し、該検出される2次電子に応じた信号から配線パターンの導通に基づく電位の変化を調べて断線欠陥または短絡欠陥を検査することを特徴とした導通検査方法およびその装置である。

Claim (excerpt)：

被検査試料へのチャージアップを中和できるように低真空度に保たれた試料室内に設置された被検査試料上の所望の個所に照射手段により荷電粒子ビームを照射し、該被検査試料上の所望の個所から生じる2次電子を分光検出手段により分光して検出し、該検出される2次電子に応じた信号から前記所望の個所における電位を算出することを特徴とした電位測定方法。

IPC (3)：

H01L 21/66 , G01R 31/02 , G01R 31/302

FI (3)：

H01L 21/66 C , G01R 31/02 , G01R 31/28 L

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

特開昭62-105437
荷電粒子流照射装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-232272 Applicant：大見忠弘
二次電子分光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-052269 Applicant：オリンパス光学工業株式会社

Cited by examiner (4)

特開昭62-105437
特開昭62-105437
荷電粒子流照射装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-232272 Applicant：大見忠弘

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