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J-GLOBAL ID：200903023897240128

テルル化ビスマスナノ粒子の製造方法及びテルルナノ粒子の製造方法

Inventor：
戸嶋 直樹

About 戸嶋 直樹

, 
渡邉 法久

About 渡邉 法久


Applicant, Patent owner：
学校法人東京理科大学

About 学校法人東京理科大学


Agent (1)： 岩根 正敏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004345269
Publication number (International publication number)：2005343782
Application date： Nov. 30, 2004
Publication date： Dec. 15, 2005
Summary：
【課題】 安定なテルル化ビスマス(Bi2Te3)のナノ粒子の製造方法を提案すること。【解決手段】 塩化ビスマス(BiCl3)を溶媒に溶かして第1の溶液を作る過程と、保護剤としての高分子を上記溶媒に溶かして第2の溶液を作る過程と、上記第2の溶液を上記第1の溶液に加えてさらに上記溶媒を加えて第3の溶液を作る過程と、水酸化アルカリ金属を水(H2O)中に溶解させて第4の溶液を作る過程と、上記第4の溶液を上記第3の溶液に加えて第5の溶液を作る過程と、テルル(Te)と還元剤と上記第5の溶液を耐圧容器の中に入れて蓋で密閉して耐圧容器の中を攪拌しながら還元反応をさせる過程と、上記還元反応終了後、攪拌しながら室温まで温度を下げる過程とを含むテルル化ビスマスナノ粒子の製造方法とした。【選択図】 図4
Claim (excerpt)：
塩化ビスマス(BiCl3)を溶媒に溶かして第1の溶液を作る過程と、保護剤としての高分子を上記溶媒に溶かして第2の溶液を作る過程と、上記第2の溶液を上記第1の溶液に加えてさらに上記溶媒を加えて第3の溶液を作る過程と、水酸化アルカリ金属を水(H2O)中に溶解させて第4の溶液を作る過程と、上記第4の溶液を上記第3の溶液に加えて第5の溶液を作る過程と、テルル(Te)と還元剤と上記第5の溶液を耐圧容器の中に入れて密閉状態で耐圧容器の中を攪拌しながら還元反応をさせる過程と、上記還元反応終了後、攪拌しながら室温まで温度を下げる過程とを含むことを特徴とする、テルル化ビスマスナノ粒子の製造方法。
IPC (4)：
C01B19/04 ,  C01B19/02 ,  H01L35/16 ,  H01L35/34
FI (4)：
C01B19/04 G ,  C01B19/02 ,  H01L35/16 ,  H01L35/34
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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Article cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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