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J-GLOBAL ID:200903023910869332

メタン含有ガス、特に天然ガスからの水素の製造法および該方法を実施するシステム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 江崎 光史 ,  奥村 義道 ,  鍛冶澤 實
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2006521494
Publication number (International publication number):2007500115
Application date: Jul. 24, 2004
Publication date: Jan. 11, 2007
Summary:
【課題】 僅かな量の二酸化炭素しか周囲に放出しない、メタン含有ガス、特に天然ガスから水素を製造する簡単で且つ経済的な方法の提供。【解決手段】 この課題は、メタン含有ガス、特に天然ガスから水素を製造する方法において、該ガス中に含まれる炭化水素を改質器において水蒸気によって接触的に水素、一酸化炭素および二酸化炭素に分解しそして生じた一酸化炭素を、水蒸気での後続の転化反応段階において二酸化炭素と水素への接触的転化反応を行い、その際に二酸化炭素をガス洗浄によって、転化されたガス流から除去しそして洗浄した水素リッチガス流を次いで圧力スイング吸着装置において水素よりなる生成物ガス流と排ガス流とに分離しそして該排ガス流を、ガス洗浄の後にガス流から分流される水素と一緒に、実質的に炭素不含の燃料ガスとして改質器(4)に導入しそしてそこで燃焼させることを特徴とする、上記方法によって解決される。
Claim (excerpt):
メタン含有ガス、特に天然ガスから水素を製造する方法において、 該ガス中に含まれる炭化水素を改質器(4)において水蒸気によって接触的に水素、一酸化炭素および二酸化炭素に分解しそして生じた一酸化炭素を、水蒸気での後続の転化反応段階において二酸化炭素と水素への接触的転化反応を行い、 その際に二酸化炭素をガス洗浄(7)によって、転化されたガス流(8)から除去しそして洗浄した水素リッチガス流(10)を次いで圧力スイング吸着装置(11)において水素よりなる生成物ガス流(12)と排ガス流(13)とに分離しそして 該排ガス流(13)を、ガス洗浄(7)の後にガス流(10)から分流される水素(14)と一緒に、実質的に炭素不含の燃料ガスとして改質器(4)に導入しそしてそこで燃焼させる ことを特徴とする、上記方法。
IPC (2):
C01B 3/34 ,  C01B 3/56
FI (2):
C01B3/34 ,  C01B3/56 Z
F-Term (9):
4G140EA03 ,  4G140EA06 ,  4G140EB12 ,  4G140EB32 ,  4G140EB37 ,  4G140EB43 ,  4G140EB44 ,  4G140FA01 ,  4G140FC03
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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