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J-GLOBAL ID：200903023960352454

フォトニック結晶とその作製方法

Inventor： 横尾 篤 ,  富田 雅人 ,  納富 雅也 ,  中尾 正史 ,  玉村 敏昭 ,  益田 秀樹
Applicant, Patent owner： 日本電信電話株式会社
Agent (1)： 谷 義一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999060839
Publication number (International publication number)：2000258650
Application date： Mar. 08, 1999
Publication date： Sep. 22, 2000
Summary：

【要約】【課題】 フォトニック結晶中に光の導波方向を制御し少ない導波損失で光を導波させる導波路を持たせること、またフォトニック結晶に対し少ない損失で光を入出射させる光入出射端を持たせること。【解決手段】 基板101の表面にモールド102によりプレスして凹凸パターン103を形成する。次に、その凹凸パターンを有する基板をシュウ酸中で陽極酸化することにより、基板は周期的ナノホール構造104を有する金属酸化物薄膜105となる。この金属酸化物薄膜105に対してイオンビームを照射することにより、導波路構造となる溝106が形成される。これにより光の伝搬の中心部にランダムなホール配列が形成されることがない。また、この金属酸化物薄膜の外縁に対してイオンビームを照射することにより、光学波長の平坦さを有する端面による光入射出部を形成できる。

Claim (excerpt)：

光学波長の周期構造と光学波長の平坦さの側壁構造を有する金属酸化薄膜で作製されたことを特徴とするフォトニック結晶。

IPC (3)：

G02B 6/13 ,  C30B 7/12 ,  G02B 6/122

FI (3)：

G02B 6/12 M ,  C30B 7/12 ,  G02B 6/12 A

F-Term (8)：

2H047PA22 ,  2H047QA04 ,  4G077AA03 ,  4G077BB01 ,  4G077CB05 ,  4G077ED04 ,  4G077FE15 ,  4G077HA01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 低損失光及び光電子集積回路
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平6-516248   Applicant：マサチユセツツ・インスチチユート・オブ・テクノロジー