DNA合成酵素活性の測定方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996179221
Publication number (International publication number)：1998023900
Application date： Jul. 09, 1996
Publication date： Jan. 27, 1998
Summary：

【要約】【構成】所定の膜厚を有する酸化シリコン被膜が形成され、かつポリAが固相化されたシリコン基板からなるDNA合成反応用支持体に、ビオチン標識dUTP、ポリTおよび界面活性剤を含有する反応液と検体とを接触させてDNA合成反応を行なう工程と、前記DNA合成反応用支持体を、ストレプトアビジン-金コロイド複合体と接触させる工程と、前記DNA合成反応用支持体と同一の支持体からなり、かつ前記ヌクレオチド鎖が固相化されていない対照用支持体に、直線偏光を所定の入射角で入射させる工程と、該対照用支持体で反射した第1の反射光を前記直線偏光の入射角と同一の入射角で前記DNA合成反応を行なった後のDNA合成反応用支持体に入射させる工程と、前記DNA合成反応用支持体で反射した第2の反射光の楕円偏光成分を測定する工程とを具備する。【効果】DNA合成酵素活性を高感度に測定することができる。

Claim (excerpt)：

所定の膜厚を有する酸化シリコン被膜が形成され、かつDNA合成酵素の鋳型であるヌクレオチド鎖が固相化されたシリコン基板からなるDNA合成反応用支持体に、該ヌクレオチド鎖に相補的であり、かつ標識されたデオキシリボヌクレオチド、プライマーおよび界面活性剤を含有する反応液と検体とを接触させてDNA合成反応を行なう工程と、前記DNA合成反応用支持体を、前記デオキシリボヌクレオチドの標識と特異的に反応し得る物質と無機物質との複合体と接触させる工程と、前記DNA合成反応用支持体と同一の支持体からなり、かつ前記ヌクレオチド鎖が固相化されていない対照用支持体に、直線偏光を所定の入射角で入射させる工程と、該対照用支持体で反射した第1の反射光を前記直線偏光の入射角と同一の入射角で前記DNA合成反応を行なった後のDNA合成反応用支持体に入射させる工程と、前記DNA合成反応用支持体で反射した第2の反射光の楕円偏光成分を測定する工程と、を具備することを特徴とするDNA合成酵素活性の測定方法。

IPC (5)：

C12Q 1/68 , C12Q 1/48 , G01N 21/21 , C12N 15/09 , C12Q 1/70

FI (5)：

C12Q 1/68 , C12Q 1/48 , G01N 21/21 Z , C12Q 1/70 , C12N 15/00 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (13)

特開平4-148697
特開平4-148697
特開平4-315052

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