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J-GLOBAL ID:200903024040597630

リグニン系架橋体とその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 特許業務法人アイテック国際特許事務所 ,  中村 敦子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003030053
Publication number (International publication number):2004238539
Application date: Feb. 06, 2003
Publication date: Aug. 26, 2004
Summary:
【課題】このような状況に鑑み再生可能な資源であるリグノセルロース系資源に由来するリグニン含有材料を用いて、親水性の架橋体を構築すること。【解決手段】以下の(a)〜(d): (a)フェノール化合物により溶媒和されたリグニン含有材料に酸を添加し混合して得られるリグニンのフェノール化合物であるリグニン一次誘導体、(b)(a)のリグニン一次誘導体に対してカルボキシアルキル基、ハイドロキシアルキル基、エポキシ基、カルボキシル基から選択される1種あるいは2種以上が導入されたリグニン二次誘導体、(c)(a)のリグニン一次誘導体をアルカリ処理して得られるリグニン二次誘導体、(d)(a)のリグニン誘導体に対してアルカリ処理と、カルボキシルアルキル基、ハイドロキシアルキル基、エポキシ基、カルボキシル基から選択される1種あるいは2種以上の官能基の導入反応とが施されたリグニン二次誘導体、からなる群から選択される1種あるいは2種以上のリグニン誘導体が、親水性の架橋性化合物により架橋した架橋とする。【選択図】図4
Claim (excerpt):
リグニン系架橋体であって、 以下の(a)〜(d): (a)フェノール化合物により溶媒和されたリグニン含有材料に酸を添加し混合して得られるリグニンのフェノール化合物の一次誘導体、 (b)(a)のリグニン一次誘導体に対してカルボキシアルキル基、ハイドロキシアルキル基、エポキシ基、カルボキシル基から選択される1種あるいは2種以上が導入されたリグニン二次誘導体、 (c)(a)のリグニン一次誘導体をアルカリ処理して得られるリグニン二次誘導体、 (d)(a)のリグニン誘導体に対してアルカリ処理と、カルボキシルアルキル基、ハイドロキシアルキル基、エポキシ基、カルボキシル基から選択される1種あるいは2種以上の官能基の導入反応とが施されたリグニン二次誘導体、 からなる群から選択される1種あるいは2種以上のリグニン誘導体が、親水性の架橋性化合物により架橋されて形成される、架橋体。
IPC (1):
C08H5/04
FI (1):
C08H5/04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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