投影露光方法及び装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大森聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994257835
Publication number (International publication number)：1996124829
Application date： Oct. 24, 1994
Publication date： May. 17, 1996
Summary：

【要約】【目的】一括露光方式及び走査露光方式の長所を活かせると共に、それら2つの方式の短所を補える投影露光方法を提供する。【構成】レチクル26をX方向に走査できるレチクルステージ28上に保持し、ウエハ35を2次元的に移動できるXステージ39X、及びYステージ39Y上に保持し、照明光ILのもとで、レチクル26のパターンを投影光学系34を介してウエハ35上に露光する。主制御系7中の露光モード決定手段9により、一括露光モード及び走査露光モードの中から、例えばスループットが最も高くなるような露光モードを選択し、一括露光モードのときにはレチクル26とウエハ35とを静止させて露光し、走査露光モードのときにはレチクル26とウエハ35とを同期して走査して露光する。

Claim (excerpt)：

露光用の照明光で転写用のパターンが形成されたマスクを照明し、前記マスクのパターンの像を投影光学系を介して感光基板上に配列された複数のショット領域のそれぞれに露光する方法において、前記マスクと前記感光基板とを同期して前記投影光学系の光軸を横切る方向に走査している状態で、前記照明光を連続的、又は周期的に前記マスクに照射することにより、前記マスクのパターンの像を前記感光基板上の露光対象とするショット領域に逐次露光する走査露光モードと、前記マスクと前記感光基板とが静止している状態で、前記照明光を所定の積算露光量だけ前記マスクに照射することにより、前記マスクのパターンの像を前記感光基板上の露光対象とするショット領域に一括露光する一括露光モードと、を有し、前記感光基板上の複数のショット領域の配列、前記感光基板で必要な積算露光量、前記ショット領域の形状、並びに前記マスクのパターン像の露光に必要な解像度及びディストーションの許容値よりなる情報の少なくとも1つを用いて前記感光基板上の複数のショット領域のそれぞれに対して前記走査露光モード、又は前記一括露光モードの何れで露光するかを決定し、該決定された露光モードで前記マスクのパターン像を前記感光基板上の各ショット領域に露光することを特徴とする投影露光方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03B 27/32 , G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 518 , H01L 21/30 514 C

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

特開平4-196513
特開平2-229423
特開昭56-111218

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Cited by examiner (1)

特開平4-196513

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