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J-GLOBAL ID：200903024453494650

プラズマ処理装置

Inventor： 野上 裕
Applicant, Patent owner： アネルバ株式会社
Agent (1)： 大垣 孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994184321
Publication number (International publication number)：1996050996
Application date： Aug. 05, 1994
Publication date： Feb. 20, 1996
Summary：

【要約】【目的】 プラズマ生成用チャンバー1、このチャンバー1の周囲に設けられた複数の環状アンテナ2a,2bおよびファラディーシールドを具えるプラズマ処理装置において、ファラディーシールドでの環状電流の発生を防止すること。【構成】 ファラディーシールド110を、アンテナの中心軸方向に長尺な導電性部材10aをチャンバーの周方向に沿って複数配置し構成した導電性部材群10bと、それぞれの長尺な導電性部材10aの下端同士を電気的に接続しているがチャンバの周方向の電気的閉ループを阻止するため一部を切り欠いてある環状の導電性部材10xとを具える構造体で構成する。

Claim (excerpt)：

プラズマ生成用チャンバーと、該チャンバーの周囲に設けられた螺旋状アンテナ又は複数の環状アンテナと、該アンテナの前記チャンバー側に設けられたファラディーシールドとを具えるプラズマ処理装置において、ファラディーシールドを、アンテナの中心軸方向に長尺な導電性部材をチャンバーの周方向に沿って複数配置し構成した導電性部材群と、それぞれの長尺な導電性部材の一部同士を電気的に接続しているが前記チャンバの周方向の電気的閉ループを阻止するため一部を切り欠いてある環状の導電性部材とを具える構造体で構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (2)：

H05H 1/46 ,  C23F 4/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• 特開平2-222141
  
• 特表平5-502971
  
• 特開昭63-156533
  
• 誘導RF結合を用いたプラズマ加工装置とその方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-169619   Applicant：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• 特開平2-222141
  
• 特表平5-502971
  
• 特開昭63-156533