マイクロ構造及びナノ構造の複製及び転写

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：熊倉禎男 , 大塚文昭 , 今城俊夫 , 西島孝喜
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2004537842
Publication number (International publication number)：2005539396
Application date： Sep. 17, 2003
Publication date： Dec. 22, 2005
Summary：

マスターから基板に微視的パターンを複製する方法が開示され、ここでは、マスター上のトポグラフィ構造の複製物が形成され、必要とされるときに、種々の印刷技術又はインプリント技術の1つを用いて、受け基板上に転写され、次いで溶解される。ナノ構造、マイクロデバイス又はその一部の形成を含む付加的な処理工程もまた、転写前に、複製物を用いて行うことができる。次いで、これらの構造もまた、複製物が転写されるときに基板上に転写され、該複製物が溶解されるときには基板に残る。これは、集積回路その他のマイクロデバイスの製造における種々のリソグラフィ処理工程の相補的な工程として、又は置換工程として適用することができる技術である。

Claim (excerpt)：

パターン形成方法であって、マスターパターンの複製物を生成する工程、前記複製物をパターン形成されるべき材料を含む基板上に移す工程、前記複製物が前記基板と接触している間に該複製物を破壊する工程、を含む方法。

IPC (3)：

H01L21/027 , B81C1/00 , B82B3/00

FI (3)：

H01L21/30 502D , B81C1/00 , B82B3/00

F-Term (1)：

5F046AA28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開昭63-158168
特開平2-145326
特開昭63-275053

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