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J-GLOBAL ID：200903066106233418

ナノメ-トルのスケ-ルのパタ-ンの複製

Inventor： ニック ジョン ヴィソフスキー ,  デイヴィッド ウォング
Applicant, Patent owner： コーニング インコーポレイテッド
Agent (1)： 柳田 征史 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999327186
Publication number (International publication number)：2000147229
Application date： Nov. 17, 1999
Publication date： May. 26, 2000
Summary：

【要約】【課題】 ナノメートルのスケールのパターンを複製する方法において、そのパターンを大面積の表面に正確に複製する。【解決手段】 印刷ドラム30の表面を離型コーティング31で被覆する。高分子レジスト32の薄層を、離型コーティング31上に施す。ドラム30を、パターン付き成形型33にプレスし、全体に亘り転がして、高分子レジスト32内に厚さコントラストパターン34を形成する。高分子フイルム32のパターン付き層が、ガラス基板35に転写される。異方性イオンエッチングを用いて、高分子フイルム32の薄い部分を除去して、ガラス基板35上に高分子格子構造36を形成する。アルミニウム金属37を、存在する通路38を充填するのに十分な量で付着させる。高分子格子構造36、およびその頂部にあるアルミニウムを除去する。これにより、基板35の表面上に、適切な幅と間隔を有する平行なアルミニウム線39が残される。

Claim (excerpt)：

ナノメートルのスケールのパターンを複製する方法であって、該パターンを円筒形ローラの外面に形成し、該パターンを複製すべき表面を提供し、前記ナノメートルのスケールのパターンを前記円筒形ローラから前記表面上に転写して、その表面に該パターンの少なくとも一つの複製を提供する各工程を含むことを特徴とする方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 微細パタン形成法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-251252   Applicant：日本電信電話株式会社
• 薄膜パターン製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-270458   Applicant：株式会社日立製作所
• 平坦な基板表面に硬化フォトレジストのパターン化レリーフを設ける方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-045855   Applicant：フィリップスエレクトロニクスネムローゼフェンノートシャップ