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J-GLOBAL ID：200903024628524248

液浸顕微鏡装置

Inventor： 内川 敏男
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (2)： 古谷 史旺 ,  森 俊秀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005311022
Publication number (International publication number)：2007121500
Application date： Oct. 26, 2005
Publication date： May. 17, 2007
Summary：

【課題】 液浸観察の際のバクテリアによる汚染を低減する。【解決手段】 観察対象の基板10Aを支持する支持手段22と、液浸系の対物レンズ23と、液浸観察用の液体の循環経路32〜34から分岐した支管(ユースポイント35から吐出ノズル24の先端までの管)を介して、液体の一部を対物レンズの先端と基板との間に供給する供給手段24,31と、支管の先端に位置する供給用の開口部より大きな排液用の開口部26を有し、該排液用の開口部を少なくとも対物レンズの光軸方向に移動させて供給用の開口部と対向させ、支管内に残された液体を排液用の開口部から排出する排出手段とを備える。【選択図】 図2

Claim (excerpt)：

観察対象の基板を支持する支持手段と、 液浸系の対物レンズと、 液浸観察用の液体の循環経路から分岐した支管を介して、前記液体の一部を前記対物レンズの先端と前記基板との間に供給する供給手段と、 前記支管の先端に位置する供給用の開口部より大きな排液用の開口部を有し、該排液用の開口部を少なくとも前記対物レンズの光軸方向に移動させて前記供給用の開口部と対向させ、前記支管内に残された液体を前記排液用の開口部から排出する排出手段とを備えた ことを特徴とする液浸顕微鏡装置。

IPC (1)：

G02B 21/24

FI (1)：

G02B21/24

F-Term (3)：

2H052AB02 ,  2H052AD27 ,  2H052AD29

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 欠陥検査方法及び欠陥検査装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-313897   Applicant：株式会社日立製作所, 株式会社日立ハイテクノロジーズ
• 露光装置及びデバイス製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-151714   Applicant：株式会社ニコン
• 露光装置、露光方法、デバイスの製造方法
  Gazette classification：再公表公報   Application number：JP2004015619   Applicant：株式会社ニコン