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J-GLOBAL ID:200903024653147629

積層膜の形成方法及びその形成装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997186314
Publication number (International publication number):1999029873
Application date: Jul. 11, 1997
Publication date: Feb. 02, 1999
Summary:
【要約】【課題】 大気圧近傍の圧力の下で、基材表面に各種の異なる薄膜を連続的に高速に堆積した積層膜を形成する方法とその形成装置を提供する。【解決手段】 少なくとも一方の対向面に固体誘電体が設置された対向電極が複数組隣接され、各組毎の対向電極間に処理用ガスを導入して、大気圧近傍の圧力となし、各組の対向電極間に電圧立ち上がり時間が100μs以下、電界強度が1〜100kV/cmのパルス化された電界を印加することにより、グロー放電プラズマを発生させ、前記複数組の対向電極間に、基材を連続して通過させることを特徴とする。
Claim (excerpt):
少なくとも一方の対向面に固体誘電体が設置された対向電極が複数組隣接され、各組毎の対向電極間に処理用ガスを導入して、大気圧近傍の圧力となし、各組の対向電極間に電圧立ち上がり時間が100μs以下、電界強度が1〜100kV/cmのパルス化された電界を印加することにより、グロー放電プラズマを発生させ、前記複数組の対向電極間に、基材を連続して通過させることを特徴とする積層膜の形成方法。
IPC (7):
C23C 16/50 ,  C23C 16/54 ,  D06M 10/06 ,  H01L 21/203 ,  H05H 1/46 ,  C08J 7/00 306 ,  H01L 21/31
FI (8):
C23C 16/50 ,  C23C 16/54 ,  D06M 10/06 ,  H01L 21/203 Z ,  H05H 1/46 M ,  C08J 7/00 306 ,  H01L 21/31 C ,  D06M 10/00 G
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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