放電プラズマ処理方法及び放電プラズマ処理装置

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996154220
Publication number (International publication number)：1997059777
Application date： Jun. 14, 1996
Publication date： Mar. 04, 1997
Summary：

【要約】【課題】少量の処理ガスで所望の処理が可能であり、かつ、簡便な放電プラズマ処理装置及び放電プラズマ処理方法を提供する。【解決手段】被処理部に処理ガスを供給しながら、不活性気体中で発生させた放電プラズマを当該被処理部に向けて突出させることを特徴とする放電プラズマ処理方法。

Claim (excerpt)：

被処理部に処理ガスを供給しながら、不活性気体中で発生させた放電プラズマを当該被処理部に向けて突出させることを特徴とする放電プラズマ処理方法。

IPC (7)：

C23C 16/50 , H01L 21/205 , H01L 21/3065 , H05H 1/30 , H05H 1/42 , H05H 1/46 , C08J 7/00 306

FI (7)：

C23C 16/50 , H01L 21/205 , H05H 1/30 , H05H 1/42 , H05H 1/46 A , C08J 7/00 306 , H01L 21/302 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (15)

特開平4-337076
特開平3-241739
特表平4-504986

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