ポジ型ホトレジスト組成物

Inventor： , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：阿形明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994144437
Publication number (International publication number)：1995230165
Application date： Jun. 27, 1994
Publication date： Aug. 29, 1995
Summary：

【要約】 (修正有)【構成】アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド基含有化合物、及び一般式(1)[Rfは炭素数6〜10のフッ化アルキル基、R1はH又は炭素数1〜5のアルキル基、R2は水酸基2個以上をもつ炭素数2〜5のアルキル基等]の化合物、一般式(2)Rg-(CH2)m-OCH2CH(OH)-CH2OH......(2)(Rgは炭素数4〜20のペルフルオロアルキル基、mは1又は2の整数)の化合物又はパーフルオロアルキル基含有シロキサン結合とポリオキシエチレン型ポリエーテル結合のみを有する非イオン性含フッ素オルガノシロキサン系化合物を、2-オキシプロピオン酸アルキル-酢酸アルキル、2-オキシプロピオン酸アルキル-プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート等に溶解して成るポジ型ホトレジスト組成物。【効果】ストリエーションの生じることがなく、かつ消泡性及び濡れ特性に優れるため、塗膜不良や現像不良の生じることがないポジ型ホトレジスト組成物を提供する。

Claim (excerpt)：

(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)キノンジアジド基含有化合物、及び(C)一般式【化1】[式中のRfはアルキル基の水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換された炭素数6〜10のフッ化アルキル基、R1は水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基、R2は水酸基2個以上を有する炭素数2〜5のアルキル基、-(CH2CH2O)n-R3(ここでR3は水素原子又はベンゾイル基、nは1〜10の整数である)又は-CH2COOR4(R4は炭素数1〜5のアルキル基である)である]で表わされる化合物、一般式Rg-(CH2)m-OCH2CH(OH)-CH2OH(式中のRgは炭素数4〜20のペルフルオロアルキル基、mは1又は2の整数である)で表わされる化合物及びパーフルオロアルキル基含有シロキサン結合とポリオキシエチレン型ポリエーテル結合のみを有する非イオン性含フッ素オルガノシロキサン系化合物の中から選ばれた少なくとも1種の非イオン性フッ素系化合物を、(D)2-オキシプロピオン酸アルキル60〜90重量%と酢酸アルキル40〜10重量%の混合溶剤、2-オキシプロピオン酸アルキル50〜90重量%とプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート50〜10重量%の混合溶剤又はプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートに溶解して成るポジ型ホトレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/022 , G03F 7/004 504 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

特開昭62-036657
特開昭57-040249
特開昭64-046739

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