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J-GLOBAL ID：200903024793807270

投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法

Inventor：
溝内 聡

About 溝内 聡


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998303297
Publication number (International publication number)：2000114163
Application date： Oct. 09, 1998
Publication date： Apr. 21, 2000
Summary：
【要約】【課題】 基板(ウエハ)面上の軸上光束のテレセントリック性を適切に保ち、高い解像力が容易に得られるようにした投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【解決手段】 光源と、該光源からの光束を集光する集光光学系と、該集光光学系からの光束を混合して射出する光束混合手段と、該光束混合手段からの出射光束を用いて多数の部分光束を発生させる多光束発生手段と、該多光束発生手段からの光束を重ね合わせた状態で被照射面を照射する照射手段と、被照射面に配置した物体面上のパターンを基板上に投影露光する投影光学系とを有する投影露光装置において、該光束混合手段と多光束発生手段との間にテレセン調整手段を設けて、該多光束発生手段の入射面上の光量分布を変位させて該基板上でのテレセントリック性を調整していること。
Claim (excerpt)：
光源と、該光源からの光束を集光する集光光学系と、該集光光学系からの光束を混合して射出する光束混合手段と、該光束混合手段からの出射光束を用いて多数の部分光束を発生させる多光束発生手段と、該多光束発生手段からの光束を重ね合わせた状態で被照射面を照射する照射手段と、被照射面に配置した物体面上のパターンを基板上に投影露光する投影光学系とを有する投影露光装置において、該光束混合手段と多光束発生手段との間にテレセン調整手段を設けて、該多光束発生手段の入射面上の光量分布を変位させて該基板上でのテレセントリック性を調整していることを特徴とする投影露光装置。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (2)：
H01L 21/30 515 D ,  G03F 7/20 521
F-Term (8)：
5F046BA05 ,  5F046CB01 ,  5F046CB10 ,  5F046CB12 ,  5F046CB13 ,  5F046CB19 ,  5F046CB23 ,  5F046DA12
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (7)
  • 特公平7-085140
  • 特公平7-085140
  • 照明光学装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-355200   Applicant：株式会社ニコン
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