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J-GLOBAL ID：200903024956339970

プラズマ処理装置

Inventor： 石井 信雄 ,  後藤 尚久 ,  安藤 真 ,  高田 潤一 ,  堀池 靖浩
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社 ,  後藤 尚久 ,  安藤 真 ,  高田 潤一 ,  堀池 靖浩
Agent (1)： 浅井 章弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996153357
Publication number (International publication number)：1997181052
Application date： May. 24, 1996
Publication date： Jul. 11, 1997
Summary：

【要約】【課題】 マイクロ波により発生する静電場を利用してプラズマを発生させることのできるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 被処理体Wを載置する載置台6を内部に設けた気密な処理容器4と、マイクロ波発生器50と、このマイクロ波発生器にて発生したマイクロ波を前記処理容器へ導くための導波管52と、この導波管に接続されて前記載置台と対向して配置された平面アンテナ部材44と、このアンテナ部材に多数のループ状に形成された多数のスリット60と、前記処理容器内へガスを供給する手段20,22とを備え、前記スリットの長さを、前記処理容器内にアンテナ表面から離れるにつれて指数関数的に減衰する静電界を形成するために、前記マイクロ波の管内波長よりも短く設定すると共に前記アンテナ部材の半径方向における前記スリット間の距離を前記マイクロ波の管内波長より短い長さに設定するように構成する。これにより、アンテナ部材にマイクロ波を供給して処理空間に、アンテナ表面から離れるにつれて指数関数的に減衰する静電界を作り、プラズマを形成する。

Claim (excerpt)：

被処理体を載置する載置台を内部に設けた気密な処理容器と、マイクロ波発生器と、このマイクロ波発生器にて発生したマイクロ波を前記処理容器へ導くための導波管と、この導波管に接続されて前記載置台と対向して配置された平面アンテナ部材と、このアンテナ部材に多数のループ状に形成された多数のスリットと、前記処理容器内へガスを供給する手段とを備え、前記スリットの長さを、前記処理容器内にアンテナ表面から離れるにつれて指数関数的に減衰する静電界を形成するために、前記マイクロ波の管内波長よりも短く設定すると共に前記アンテナ部材の半径方向における前記スリット間の距離を前記マイクロ波の管内波長より短い長さに設定するように構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5)：

H01L 21/3065 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46

FI (5)：

H01L 21/302 B ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 D ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平3-191073
  
• プラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-289746   Applicant：株式会社日立製作所
• 特開平3-020460
  
• 特開平1-283359