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J-GLOBAL ID：200903024966605792
固体撮像素子及びその製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
梅田 勝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993017270
Publication number (International publication number)：1994232383
Application date： Feb. 04, 1993
Publication date： Aug. 19, 1994
Summary：
【要約】【構成】 従来工程により、画素分離領域6、転送電極7及び受光部8を設けた後、下部遮光膜9として、WSi,TiW又はTiNから成る膜を堆積する。その後、不純物を有しないシリコン酸化膜12を形成し、シリコン酸化膜12上にPSG膜又はBPSG膜10を堆積し、次に、上部遮光膜11として、Al-Siから成る膜を堆積する。【効果】 WSi,TiW又はTiNから成る遮光膜と層間絶縁膜との界面に気泡を生じるのを抑制することができる。
Claim (excerpt)：
2層の遮光膜を有する固体撮像素子に於いて、下部遮光膜上に所定の膜厚の不純物を含まない絶縁膜が形成され、該不純物を含まない絶縁膜上に所定の膜厚の不純物を含む絶縁膜が形成され、該不純物を含む絶縁膜上に上部遮光膜が設けられていることを特徴とする固体撮像素子。
IPC (2)：
H01L 27/148
, H01L 21/316
