投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高梨幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995350915
Publication number (International publication number)：1996255748
Application date： Dec. 25, 1995
Publication date： Oct. 01, 1996
Summary：

【要約】【課題】レチクル面上のパターンをウエハ面上に投影する投影光学系の投影倍率誤差及び歪曲収差を補正し、高集積度の半導体デバイスが得られる投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【解決手段】パターンを投影光学系を介して基板上に転写する投影露光装置において、前記投影光学系を構成する少なくとも2つのレンズ群を、光軸方向に別個に移動させることにより前記基板上に投影されるパターンの投影倍率及び歪曲収差を調整すること。

Claim (excerpt)：

パターンを投影光学系を介して基板上に転写する投影露光装置において、前記投影光学系を構成する少なくとも2つのレンズ群を、光軸方向に別個に移動させることにより前記基板上に投影されるパターンの投影倍率及び歪曲収差を調整することを特徴とする投影露光装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 , G02B 7/02 , G02B 27/18 , G03F 7/20 521

FI (6)：

H01L 21/30 516 A , G02B 7/02 F , G02B 27/18 Z , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 502 G , H01L 21/30 527

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

投影露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-195315 Applicant：株式会社ニコン
特開平4-134813
特開平4-030411

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