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J-GLOBAL ID:200903025015070470

高減衰材料組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 上野 登
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997362125
Publication number (International publication number):1999172122
Application date: Dec. 10, 1997
Publication date: Jun. 29, 1999
Summary:
【要約】【課題】高分子鎖間の相互作用を制御することにより、高いtanδを発現することができる高減衰材料組成物を提供すること。【解決手段】ベースポリマーである塩素化ポリエチレン100重量%に減衰性添加剤としてスルフェンアミド系添加剤、チアゾール系添加剤、チウラム系添加剤、グアニジン系添加剤、ベンゾトリアゾール系添加剤、ジチオカルバミン酸塩系、顔料、ピリジン系添加剤、潤滑油添加剤、エポキシ樹脂硬化促進剤、ウレタン触媒、ヒンダードアミン系添加剤あるいはイソシアヌル酸誘導物のうちいずれかをそれぞれ100重量%ずつ配合して、所定の加工成形処理を施す。得られる高減衰材料組成物は、ベースポリマーの鎖状分子間に働く分子間ポテンシャルを均一化させ、高いtanδを安定して発現することができる。
Claim (excerpt):
極性側鎖を有するベースポリマーに、第2級アミン、第3級アミン及び含窒素複素環より選ばれた塩基を1分子中に2個以上含む塩基性物質を1種又は2種以上分散させたことを特徴とする高減衰材料組成物。
IPC (5):
C08L101/00 ,  C08K 5/17 ,  C08K 5/34 ,  C08K 5/36 ,  F16F 7/00
FI (5):
C08L101/00 ,  C08K 5/17 ,  C08K 5/34 ,  C08K 5/36 ,  F16F 7/00 B
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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