格子パターンの露光方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：渡辺勝 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998317698
Publication number (International publication number)：2000150340
Application date： Nov. 09, 1998
Publication date： May. 30, 2000
Summary：

【要約】【課題】微細な格子点寸法を有するフォトレジスト格子パターンを高速で容易に形成する。【解決手段】光学露光装置を用いて、 L/Sパタ-ンにより第1の露光を行い、これと90°傾けたL/Sパタ-ンにより第2の露光を行ってフォトレジストに正方格子パターン9を露光する。多重露光部10の現像液への高い溶解特性、または非感光部13の現像液への非溶解性を利用して、高速性とともに、光学露光法の限界に達する微細解像特性をもつ格子パターンが得られる。

Claim (excerpt)：

光学露光装置を用いてフォトレジストに格子パターンを露光する露光方法において、異なるパターンの少なくとも2回以上の多重露光によって格子パターンをパターニングすることを特徴とする格子パターンの露光方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/22

FI (2)：

H01L 21/30 514 A , G03F 7/22 H

F-Term (6)：

5F046AA13 , 5F046AA25 , 5F046BA04 , 5F046CB17 , 5F046DA02 , 5F046DB01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

特開昭63-232318
縮小投影露光方法および縮小投影露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-281714 Applicant：富士通株式会社

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