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J-GLOBAL ID：200903025064791182

排ガス浄化装置

Inventor：
矢作 秀夫

About 矢作 秀夫


Applicant, Patent owner：
トヨタ自動車株式会社

About トヨタ自動車株式会社


Agent (2)： 谷 義一 ,  阿部 和夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003284363
Publication number (International publication number)：2005048753
Application date： Jul. 31, 2003
Publication date： Feb. 24, 2005
Summary：
【課題】 バリア層からのPMの剥離による未処理のPMの排出を抑制して、処理性能を向上する。【解決手段】 バリア層40の内側面に、多数の凹部41および凸部42からなる凹凸を設ける。排ガス中のPMは内部電極30により帯電され、これと逆極性である外周電極20側に吸引され、バリア層の吸着面に堆積される。堆積されたPMは、両電極間への高電圧の印加により処理される。吸着・堆積されたPMは凹部41によく保持され、その剥離・脱落が抑制されると共に、凹部41の底部に配設された発熱体43により焼却される。【選択図】 図2
Claim (excerpt)：
筒状の外周電極と、該外周電極内に挿通された内部電極と、を備え、前記両電極間に高電圧を印加して発生させたプラズマを用いて、前記両電極間に供給される排ガスを浄化する排ガス浄化装置において、 絶縁体からなり前記外周電極の内側面を覆うように配置されたバリア層を更に備え、 前記バリア層の内側面に凹凸を設けたことを特徴とする排ガス浄化装置。
IPC (13)：
F01N3/02 ,  B01D53/94 ,  B01J19/08 ,  B03C3/02 ,  B03C3/34 ,  B03C3/38 ,  B03C3/40 ,  B03C3/49 ,  B03C3/60 ,  B03C3/62 ,  B03C3/74 ,  F01N3/08 ,  F01N3/28
FI (16)：
F01N3/02 301F ,  F01N3/02 321A ,  F01N3/02 321E ,  F01N3/02 341J ,  B01J19/08 E ,  B03C3/02 A ,  B03C3/34 ,  B03C3/38 ,  B03C3/40 A ,  B03C3/49 ,  B03C3/60 ,  B03C3/62 ,  B03C3/74 Z ,  F01N3/08 C ,  F01N3/28 M ,  B01D53/36 103C
F-Term (62)：
3G090AA03 ,  3G090AA06 ,  3G090BA01 ,  3G090BA04 ,  3G090CA01 ,  3G090CB12 ,  3G090DA07 ,  3G091AA02 ,  3G091AB01 ,  3G091AB13 ,  3G091AB14 ,  3G091BA13 ,  3G091BA14 ,  3G091BA15 ,  3G091BA19 ,  3G091CA01 ,  3G091CA03 ,  3G091CA04 ,  3G091CA05 ,  3G091CA26 ,  3G091DB10 ,  3G091EA01 ,  3G091EA05 ,  3G091EA06 ,  3G091EA07 ,  3G091EA27 ,  3G091EA29 ,  3G091EA34 ,  3G091FC01 ,  3G091GA16 ,  3G091GB01W ,  3G091GB05W ,  3G091GB06W ,  3G091GB10W ,  3G091GB17Y ,  3G091HA15 ,  3G091HA45 ,  4D048AA14 ,  4D048AB01 ,  4D048BA03Y ,  4D048BA23Y ,  4D048BA28Y ,  4D048BA30Y ,  4D048BA35Y ,  4D048BA41Y ,  4D048CC52 ,  4D048EA03 ,  4D054AA03 ,  4D054BA01 ,  4D054BB02 ,  4D054BC01 ,  4D054BC06 ,  4D054BC22 ,  4D054BC25 ,  4D054DA09 ,  4D054DA11 ,  4G075AA03 ,  4G075AA37 ,  4G075BA05 ,  4G075CA47 ,  4G075EC21 ,  4G075FA05
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)

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