Pat

J-GLOBAL ID：200903025071375810

化学気相法による成膜装置

Inventor： 松野 博光 ,  五十嵐 龍志 ,  平本 立躬
Applicant, Patent owner： ウシオ電機株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993023533
Publication number (International publication number)：1994216031
Application date： Jan. 20, 1993
Publication date： Aug. 05, 1994
Summary：

【要約】【目的】 各種の膜を、大面積で、不純物を混入させること無く、高品質で、十分な速度で製造できる高性能の化学気相法による成膜装置を提供する。【構成】 少なくともプロセスガスを供給する手段と、前記プロセスガスを電離、解離、活性化するための誘電体バリヤ放電装置からなることを特徴とした化学気相法による成膜装置。

Claim (excerpt)：

少なくともプロセスガスを供給する手段と、前記プロセスガスを電離、解離、活性化するための放電装置とからなる、化学気相法によって基板に膜を形成する成膜装置において、前記放電装置が誘電体バリヤ放電装置からなることを特徴とした化学気相法による成膜装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平4-358076
  
• 特開平2-073979
  
• 特開平2-073978
  
• 大気圧グロ-放電プラズマ用電極
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-211419   Applicant：イーシー化学株式会社, 岡崎幸子, 小駒益弘