ポリスチレンスルホン酸塩水溶液及びその製造法

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997319733
Publication number (International publication number)：1998237248
Application date： Nov. 20, 1997
Publication date： Sep. 08, 1998
Summary：

【要約】【課題】塩素イオン、硫酸イオンを著しく低減化し、なおかつ色相を改良したポリスチレンスルホン酸塩水溶液を提供する。【解決手段】 20重量%ポリスチレンスルホン酸塩水溶液中に塩素イオン、硫酸イオンの含有量がともに1ppm〜100ppmであり、かつ色相(APHA)が10〜60であることを特徴とするポリスチレンスルホン酸塩水溶液を製造し、用いる。

Claim (excerpt)：

20重量%ポリスチレンスルホン酸塩水溶液中に塩素イオン及び硫酸イオンの含有量が1ppm〜100ppmであり、かつ色相(APHA)が10〜60であることを特徴とするポリスチレンスルホン酸塩水溶液。

IPC (2)：

C08L 25/18 , C08F 4/04

FI (2)：

C08L 25/18 , C08F 4/04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

特開平3-168239
特開平3-026731
低粘度エポキシ樹脂組成物及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-112910 Applicant：株式会社日本触媒

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