紫外線用ペリクルおよびペリクル用ケース

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴木俊一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997029073
Publication number (International publication number)：1998228099
Application date： Feb. 13, 1997
Publication date： Aug. 25, 1998
Summary：

【要約】【課題】耐光性(耐久性)に優れた200nm以下の紫外線用ペリクルおよびペリクル用ケース。【解決手段】ペリクル膜と、該ペリクル膜を接着剤(a) 層を介して張設保持する保持枠と、保持枠を被保護体に固定させる接着剤(b) 層とからなり、前記接着剤(a) 層および接着剤(b) 層は、該層から発生してペリクル膜に吸着あるいは吸収される化合物であって、かつ波長140〜200nmの紫外線照射によりラジカルを発生する化合物の発生量が200ppm 以下である波長140〜200nmの紫外線用ペリクルおよび該ペリクル用ケース。波長140〜200nmの紫外線照射によりラジカルを発生する化合物は、具体的に、芳香族化合物、ケトンまたは窒素化合物である。

Claim (excerpt)：

ペリクル膜と、該ペリクル膜を接着剤(a) 層を介して張設保持する保持枠と、保持枠を被保護体に固定させる接着剤(b) 層とからなり、前記接着剤(a)層および接着剤(b)層は、該接着剤層から発生してペリクル膜に吸着あるいは吸収されうる化合物であって、かつ波長140〜200nmの紫外線照射によりラジカルを発生する化合物の発生量が200ppm 以下であることを特徴とする波長140〜200nmの紫外線用ペリクル。

IPC (3)：

G03F 1/14 , B65D 85/86 , H01L 21/027

FI (4)：

G03F 1/14 J , G03F 1/14 M , B65D 85/38 R , H01L 21/30 502 P

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

特開平3-071134
ペリクル及びペリクルの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-293199 Applicant：東ソー株式会社
特開昭63-064048

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