窒素酸化物の選択的還元触媒

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006114507
Publication number (International publication number)：2006320893
Application date： Apr. 18, 2006
Publication date： Nov. 30, 2006
Summary：

【課題】高濃度の酸素等が共存する条件下においても、排ガス中に含まれる窒素酸化物を効率良く除去することができる窒素酸化物の選択的還元触媒を安価に提供すること。さらに、上記窒素酸化物の選択的還元触媒の製造方法及び該触媒を使用した窒素酸化物の除去方法を提供すること。【解決手段】アルミニウムを陽極酸化して得られる酸化アルミニウム層を有する基体の該酸化アルミニウム層に銀を担持したことを特徴とする窒素酸化物の選択的還元触媒を使用し、高濃度の酸素等が共存する条件下において、排ガス中に含まれる窒素酸化物を効率良く除去することを特徴としている。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

アルミニウムを陽極酸化して得られる酸化アルミニウム層を有する基体の該酸化アルミニウム層に銀を担持したことを特徴とする窒素酸化物の選択的還元触媒。

IPC (6)：

B01D 53/94 , B01J 23/50 , B01J 37/12 , B01J 37/34 , F01N 3/10 , F01N 3/28

FI (7)：

B01D53/36 101B , B01J23/50 A , B01J37/12 , B01J37/34 , F01N3/10 A , F01N3/28 301C , F01N3/28 301P

F-Term (41)：

3G091AA18 , 3G091AB06 , 3G091BA11 , 3G091BA14 , 3G091BA39 , 3G091GB01X , 4D048AA06 , 4D048AB02 , 4D048AC02 , 4D048AC09 , 4D048BA03X , 4D048BA34X , 4D048BA41X , 4G169AA01 , 4G169AA03 , 4G169AA08 , 4G169BA01A , 4G169BA01B , 4G169BA17 , 4G169BC10A , 4G169BC16A , 4G169BC31A , 4G169BC32A , 4G169BC32B , 4G169BC50A , 4G169BC58A , 4G169BC66A , 4G169BC68A , 4G169CA02 , 4G169CA03 , 4G169CA08 , 4G169CA13 , 4G169DA06 , 4G169EB15X , 4G169FA01 , 4G169FA02 , 4G169FA04 , 4G169FB14 , 4G169FB30 , 4G169FB42 , 4G169FB58

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

活性エネルギー線硬化性組成物、及び光ディスク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-033060 Applicant：三菱レイヨン株式会社
光学物品用電離放射線硬化型樹脂組成物、光学物品及び面光源
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-213403 Applicant：大日本印刷株式会社, 大日本インキ化学工業株式会社

Cited by examiner (7)

排ガス浄化方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-312587 Applicant：住友金属鉱山株式会社, エヌ・イーケムキャット株式会社
特開昭49-034474
特開昭64-047453

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