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J-GLOBAL ID：200903025960336575

フォトマスクおよびその製造方法、並びにそれを用いた露光方法

Inventor： 小林 慎司
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (1)： 原 謙三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998357951
Publication number (International publication number)：2000181048
Application date： Dec. 16, 1998
Publication date： Jun. 30, 2000
Summary：

【要約】【課題】 透過部に対する半透過部の透過率および位相差を考慮することによって、レジストに正確なレジスト段差を形成するフォトマスクを提供する。【解決手段】 フォトマスク1における半透過部12は、該半透過部12を透過する露光光と透過部11を透過する露光光との間に発生する干渉を抑制するように、透過部11に対する位相差が設定されている。このフォトマスク1を用いて露光を行うことによって、レジストホール51およびレジスト段差52が所定範囲(ハーフ領域22)内に確実に形成されたレジスト5を得ることができる。

Claim (excerpt)：

所定パターンを露光するために用いられ、露光光を透過する透過部と、露光光を実質的に遮断する遮光部と、透過率が上記透過部の透過率よりも低くなるように設定された半透過部とを備えているフォトマスクにおいて、上記半透過部は、該半透過部を透過する露光光と透過部を透過する露光光との間に発生する干渉を抑制するように、透過部に対する位相差を設定していることを特徴とするフォトマスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P

F-Term (9)：

2H095BA06 ,  2H095BB03 ,  2H095BB10 ,  2H095BB14 ,  2H095BB18 ,  2H095BB28 ,  2H095BC02 ,  2H095BC04 ,  2H095BC24

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• レティクル、フォトリソグラフィの利用方法、パターニング方法およびフォトレジストプロファイルの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-070236   Applicant：シャープ株式会社, シャープ・マイクロエレクトロニクス・テクノロジー・インコーポレイテッド
• フォトマスク及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-133835   Applicant：シャープ株式会社
• 位相シフトマスク及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-310902   Applicant：富士通株式会社