Pat
J-GLOBAL ID：200903026548714375
フォトマスク及びその製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
梅田 勝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995133835
Publication number (International publication number)：1996328235
Application date： May. 31, 1995
Publication date： Dec. 13, 1996
Summary：
【要約】【構成】 透明基板1上に、ハーフトーン膜2によってパターンが形成されており、透過光のサイドローブが発生する位置に対応する箇所の少なくとも一部に遮光膜3が形成されている。【効果】 不要パターンの転写を防止し、且つ、ハーフトーンマスク本来の光コントラストを維持することを可能にする。
Claim (excerpt)：
透明基板上に、半透明膜によってパターンが形成されているフォトマスクにおいて、透過光の1次回折光が転写される位置に対応する箇所の少なくとも一部に遮光膜が形成されていることを特徴とするフォトマスク。
IPC (2)：
FI (3)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
