Pat
J-GLOBAL ID：200903025962398578

パターン検査装置、パターン検査方法及びプログラム

Inventor：
磯村 育直

About 磯村 育直


Applicant, Patent owner：
アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社

About アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社


Agent (2)： 松山 允之 ,  池上 徹真
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007295223
Publication number (International publication number)：2009121902
Application date： Nov. 14, 2007
Publication date： Jun. 04, 2009
Summary：
【目的】擬似欠陥を低減させるパターン検査を行う装置および方法を提供することを目的とする。【構成】本発明の一態様のパターン検査装置100は、パターン形成された被検査試料における光学画像データを取得する光学画像取得部150と、前記光学画像データと前記光学画像データに対応する参照画像データとを入力し、前記光学画像データの複数の画素値と前記参照画像データの複数の画素値との関係を基に、前記光学画像データの画素値レベルと前記参照画像データの画素値レベルとの少なくとも一方を調整するレベル調整回路140と、画素値レベルが調整された前記光学画像データと前記参照画像データとを比較する比較回路108と、を備えたことを特徴とする。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
パターン形成された被検査試料における光学画像データを取得する光学画像取得部と、 前記光学画像データと前記光学画像データに対応する参照画像データとを入力し、前記光学画像データの複数の画素値と前記参照画像データの複数の画素値との関係を基に、前記光学画像データの画素値レベルと前記参照画像データの画素値レベルとの少なくとも一方を調整するレベル調整部と、 画素値レベルが調整された前記光学画像データと前記参照画像データとを比較する比較部と、 を備えたことを特徴とするパターン検査装置。
IPC (2)：
G01N 21/956 ,  G01B 11/24
FI (3)：
G01N21/956 A ,  G01B11/24 F ,  G01B11/24 K
F-Term (41)：
2F065AA56 ,  2F065BB02 ,  2F065CC17 ,  2F065DD04 ,  2F065DD11 ,  2F065EE03 ,  2F065FF01 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ25 ,  2F065JJ26 ,  2F065MM03 ,  2F065NN17 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ04 ,  2F065QQ08 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ14 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ27 ,  2F065QQ33 ,  2F065QQ36 ,  2F065QQ42 ,  2F065RR05 ,  2G051AA51 ,  2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051AC21 ,  2G051CA04 ,  2G051DA01 ,  2G051DA07 ,  2G051DA08 ,  2G051EA08 ,  2G051EA11 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EB01 ,  2G051EB02 ,  2G051EC03 ,  2G051ED07
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 画像入力装置及び検査装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-048117   Applicant：株式会社東芝, 株式会社ルネサステクノロジ
Cited by examiner (1)

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