Pat
J-GLOBAL ID:200903025978546720

有機・無機ハイブリッド膜の低温溶融加工

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 坂口 博 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003062285
Publication number (International publication number):2003309308
Application date: Mar. 07, 2003
Publication date: Oct. 31, 2003
Summary:
【要約】【課題】 フラット・パネル・ディスプレイ、非線形の光/光導電デバイス、化学センサ、有機・無機発光ダイオードの発光層および電荷輸送層、有機・無機薄膜トランジスタ、ならびに有機・無機電界効果トランジスタのチャネル層を含めて、様々な用途に使用することができる低コストの溶融加工有機・無機ハイブリッド材料を提供すること。【解決手段】 本発明は、溶融加工有機・無機ハイブリッド材料の製造方法であって、固体有機・無機ハイブリッド材料を、均一溶融物を形成するのに十分な時間、有機・無機ハイブリッド材料の融点より高いが、その分解温度より低い温度に維持するステップと、その後、溶融加工有機・無機ハイブリッド材料を生成するのに十分な条件で、均一溶融物を周囲温度に冷却するステップとを含む方法を提供する。
Claim (excerpt):
溶融加工有機・無機ハイブリッド材料の製造方法であって、固体有機・無機ハイブリッド材料を、均一溶融物を形成するのに十分な時間、前記有機・無機ハイブリッド材料の融点より高いが、その分解温度より低い温度に維持するステップと、前記溶融加工有機・無機ハイブリッド材料を生成するのに十分な条件で、前記均一溶融物を周囲温度に冷却するステップとを含む方法。
IPC (4):
H01L 51/00 ,  H01L 21/336 ,  H01L 29/78 ,  H01L 29/786
FI (6):
H01L 29/28 ,  H01L 29/78 301 B ,  H01L 29/78 301 Z ,  H01L 29/78 618 B ,  H01L 29/78 626 C ,  H01L 29/78 618 A
F-Term (14):
5F110AA30 ,  5F110BB01 ,  5F110CC07 ,  5F110DD01 ,  5F110DD02 ,  5F110DD03 ,  5F110DD04 ,  5F110DD05 ,  5F110GG05 ,  5F110GG12 ,  5F110GG13 ,  5F110GG42 ,  5F140BA00 ,  5F140BA18
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

Return to Previous Page