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J-GLOBAL ID:200903026002093914

薄膜形成装置およびその薄膜形成方法、及び自発光装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001053700
Publication number (International publication number):2001345176
Application date: Feb. 28, 2001
Publication date: Dec. 14, 2001
Summary:
【要約】【課題】 EL層を形成する塗布液を塗布する際に、塗布液を所望の塗布位置に選択的に塗布する手段を提供する。【解決手段】 塗布液を塗布する際に塗布液室111と基板110の間にマスク113が設けられており、マスク113に電圧をかけることによって、塗布液を所望の塗布位置に選択的に塗布することができる。
Claim (excerpt):
塗布液を有する塗布液室と、電極が設けられた基板と、前記塗布室と前記基板との間にマスクとを有し、前記塗布液を塗布液室で霧状とし、霧状の塗布液を前記塗布室から前記基板に向かって吐出し、前記電極に対応したマスクの開口部を通過させ、前記基板上の電極に到達させて、該電極上に薄膜を形成することを特徴とする薄膜形成方法。
IPC (8):
H05B 33/10 ,  B05B 1/28 ,  B05B 15/04 102 ,  G09F 9/00 342 ,  G09F 9/30 338 ,  G09F 9/30 365 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/14
FI (8):
H05B 33/10 ,  B05B 1/28 ,  B05B 15/04 102 ,  G09F 9/00 342 Z ,  G09F 9/30 338 ,  G09F 9/30 365 Z ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/14 A
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (9)
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